Question

Каким образом меняются затраты на изготовление устройств, использующих микропроцессорные БИС, с ростом уровня интеграции элементов на кристалле?​

Answer 1

Ответ:

¬A & B | ¬B & A

вроде так.............

Answer 2

С ростом уровня интеграции элементов на кристалле (также известного как масштаб интеграции) затраты на изготовление устройств, использующих микропроцессорные БИС (большие интегральные схемы), обычно снижаются. Это происходит по нескольким причинам:

1. Увеличение количества функциональности на одном кристалле: С ростом уровня интеграции на одном кристалле можно разместить больше компонентов и функциональных блоков. Это позволяет уменьшить количество отдельных компонентов, необходимых для создания устройства, и упростить сборку и монтаж.

2. Увеличение производительности и энергоэффективности: Более высокий уровень интеграции позволяет разместить более мощные и энергоэффективные компоненты на одном кристалле. Это может привести к сокращению количества внешних компонентов, таких как конденсаторы, резисторы и индуктивности, что уменьшает затраты на их приобретение и монтаж.

3. Увеличение производительности процесса изготовления: С развитием технологий производства полупроводников и увеличением уровня интеграции становится возможным применение более продвинутых и эффективных методов изготовления, таких как литография с использованием экстремального ультрафиолета (EUV). Это позволяет снизить стоимость производства микропроцессорных БИС.

4. Экономия масштаба: Повышение уровня интеграции приводит к увеличению числа производимых на одном кристалле микросхем. Это создает экономию масштаба, что ведет к снижению затрат на каждую отдельную микросхему.

В целом, с ростом уровня интеграции элементов на кристалле наблюдается тенденция к снижению затрат на изготовление устройств, использующих микропроцессорные БИС. Однако стоит отметить, что разработка и внедрение новых технологий требует значительных инвестиций, и в начальных стадиях нового поколения мик